耐久可靠的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)和制造工藝，確保儀器在種惡劣環(huán)境下都具有的分析性能。

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● 穩(wěn)定，可靠的硬件
● 工廠校正曲線
● 光譜制造技術(shù)
● 優(yōu)秀的分析軟件
● 分析準(zhǔn)確度更高，分析速度更快
● 分析痕量元素和氣體元素具有新的突破
● 分析范圍廣泛：適于分析鋼鐵，鋁，銅，鎂，錫，鉛，鋅，貴金屬等金屬材料
● 對(duì)操作人員無(wú)特殊要求

技術(shù)規(guī)格
光普室設(shè)計(jì): 一米焦距，帕邢龍格裝置，真空型，恒溫控制（38±0.1０C）,特殊鑄鐵材料制造,可設(shè)置60條通道
試樣臺(tái): 充氬樣品臺(tái)內(nèi)置自循環(huán)水冷系統(tǒng)
光柵: 根據(jù)分析任務(wù),儀器配置以下三種光柵中的一種
1080gr/mm,1667gr/mm,2160gr/mm
分辨率: 視光柵,出射狹縫和光譜等到級(jí)而定
狹縫寬度: 入射狹縫:20um 出射狹縫:25 , 37.5 , 50 , 75um
光電倍增管: 直經(jīng)Φ28mm,10級(jí)側(cè)窗管,光學(xué)玻璃或人造石英窗
光源: 電流控制光源(CCS)
光譜儀控制: 利用CMOS技術(shù)的APL MMB386微處理器,帶狀態(tài)控制卡每條通道均配置數(shù)模(A/D)轉(zhuǎn)換器和衰減器分為41檔測(cè)量電子部分的動(dòng)態(tài)范圍與測(cè)量時(shí)間成正比,一般為2×106計(jì)數(shù)/秒
12位可編程衰減器
時(shí)間分辨光譜(TRS)
環(huán)境要求:室溫:16～30０C,更大允許溫差為50C/小時(shí)相對(duì)濕度20～80%
電力要求:電壓230V（+10%-15%），保護(hù)性接地的單相電源
（電壓波動(dòng)超過(guò)±10%時(shí)需用5KVA穩(wěn)壓器）。電流12A，頻率50或60Hz；功率2.5KVA接地電阻1Ω
歐洲標(biāo)準(zhǔn):89/392/EEC低壓材料,89/366/EEC電磁
氬氣要求: 純度99.995%,更大含量5ppm(分析高Si樣品時(shí),更大含量為2ppm)
流量3.5升/分(分析時(shí)),0.35升/分(待機(jī)時(shí))
幾何尺寸: 長(zhǎng)1385(不計(jì)激發(fā)臺(tái)) ×寬910×高1220mm
長(zhǎng)1690(計(jì)激發(fā)臺(tái)) ×寬910×高1220mm
系統(tǒng)重理: 約540公斤
輔助設(shè)備: 氬氣凈化器瓶裝氬氣配氣系統(tǒng) 穩(wěn)壓器制樣機(jī)