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技術(shù)參數(shù)：
1. 高通量Zeiss光學(xué)系統(tǒng)
2. 波長范圍：190-900nm，可變狹縫0.2、0.5、0.8、1.2nm
3. 全自動6燈轉(zhuǎn)換
4. 橫向加熱石墨爐技術(shù)，加熱速率可達(dá)3000度/秒
5. 三磁場塞曼扣背景，磁場方向可調(diào)，磁場強(qiáng)度0-1T可調(diào)，同時可選擇2-磁場模式
6. 可固體進(jìn)樣
主要特點(diǎn)：
1.緊湊型設(shè)計(jì)，石墨爐電源內(nèi)置
2.采用更的橫向加熱石墨爐技術(shù)
3.的液體和固體石墨爐分析系統(tǒng)
4.配置3-磁場塞曼背景校正
5.氫化物-石墨爐直接聯(lián)用
6. ZEEnit650可同時配置三磁場塞曼和氘空心陰極燈背景校正技術(shù)
1. 高通量Zeiss光學(xué)系統(tǒng)
2. 波長范圍：190-900nm，可變狹縫0.2、0.5、0.8、1.2nm
3. 全自動6燈轉(zhuǎn)換
4. 橫向加熱石墨爐技術(shù)，加熱速率可達(dá)3000度/秒
5. 三磁場塞曼扣背景，磁場方向可調(diào)，磁場強(qiáng)度0-1T可調(diào)，同時可選擇2-磁場模式
6. 可固體進(jìn)樣
主要特點(diǎn)：
1.緊湊型設(shè)計(jì)，石墨爐電源內(nèi)置
2.采用更的橫向加熱石墨爐技術(shù)
3.的液體和固體石墨爐分析系統(tǒng)
4.配置3-磁場塞曼背景校正
5.氫化物-石墨爐直接聯(lián)用
6. ZEEnit650可同時配置三磁場塞曼和氘空心陰極燈背景校正技術(shù)
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